Productronica 2007 - 13. - 16. Nov. 2007

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PLUS 10/2007 Kombinierte Verfahren im Ätzprozess

Die Vakuum-Ätztechnologie wurde in Zusammenarbeit mit LP-Chemie weiter optimiert. Durch Kombination mit der Impulstechnologie wird eine noch bessere Qualität bei höherer Produktivität erzielt. Das Impuls-Ätzen wird den Ätzvorgang einen beachtlichen Schritt nach vorne bringen und neue Möglichkeiten und Marktchancen für Feinstleiter eröffnen.

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PLUS 08/2007 Vakuum-Ätz-Technologie

Mit der von Pill entwickelten Vakuum-Ätz-Technologie kann der so genannte Pfützeneffekt vermieden werden, wodurch sich gleichmäßigere Ätzergebnisse ergeben. Eine intelligente Anlagenkonstruktion ermöglicht sowohl eine fein abstimmbare Regelung als auch wartungsfreundlichkeit. ... [weiter]

Großes Interesse an der Vakuum-Ätztechnologie

Wie auch in den Vorjahren war Pill im November 2005 auf der Productronica in München und im Mai 2006 auf der JPCA-Show in Japan ... [weiter]


Vakuum-Ätztechnologie weiter auf dem Vormarsch

Wie im Vorfeld angekündigt, stand auf der Productronica 2005 in München bei uns erneut die Vakuum-Ätztechnologie ...[weiter]

In-Line Baugruppen-Reinigung im Technikum der Fa. Dr. O.K. Wack Chemie GmbH

Seit März 2003 steht im Technikum der Fa. Dr. O.K. Wack Chemie GmbH, Ingolstadt, Geschäftsbereich Zestron® eine horizontale Durchlauf-Reinigungsanlage ...[weiter]